在当时的硅基芯片制作过程中，光刻法是仅有的量产办法。 什么叫光刻法，已然便是运用光线，照耀刻录好的光掩膜板，把上面的电路图，投影到硅晶圆上，类似于投影机的原理相同。 而这个过程中，需求一种最重要的东西，那便是光刻机，而光刻机的分辨率，就决议了芯片工艺
关于半导体职业而言，光刻技能和设备发挥着基础性效果，是必不可少的。 ?所谓光刻，便是将规划好的图形从掩模版转印到晶圆外表的光刻胶上所运用的技能。光刻技能最早应用于印刷工业，之后长时间用于制作印刷电路板（PCB），1950年代，跟着半导体技能的鼓起，光刻技能开端用于制作晶体管和集成电路（IC）
英飞凌推出PQFN 封装、双面散热、25－150V OptiMOS 源极底置功率MOSFET
【2023年01月13日，德国慕尼黑讯】未来电力电子体系的规划将继续推动，以完成最高水平的功能和功率密度。为适应这一发展趋势，英飞凌科技有限公司（FSE代码：IFX ／ OTCQX代码：IFNNY）推